半導體行業(yè)廢氣主要指的是電解質(zhì)、硅、金屬、化學物質(zhì)和有機物質(zhì)等的廢氣。半導體工藝廢氣中的電解質(zhì)廢氣主要來源于表面處理過程的清洗工序，而硅、金屬和化學物質(zhì)廢氣主要來源于制造工藝中的燒結(jié)、熔體澆注、清洗、蒸鍍和磷化等工序。有機物質(zhì)廢氣主要來源于制造過程中使用的有機溶劑和有機物質(zhì)的燃燒反應(yīng)。

半導體廢氣處理方法

目前，半導體行業(yè)有機廢氣處理方法主要以下幾種方法：1、活性炭吸附法；2、燃燒法；3、化學法。酸堿性廢氣可以選用洗滌塔、噴淋塔、吸收塔。

活性炭吸附是利用活性炭的吸附性質(zhì)，通過接觸吸附，使廢氣中的有害物質(zhì)與活性炭表面結(jié)合，從而達到凈化廢氣的目的。燃燒法是將廢氣中的有害物質(zhì)通過燃燒的方式銷毀，減少對環(huán)境的污染?；瘜W吸收是利用吸收劑的吸收性質(zhì)，使廢氣中的有害物質(zhì)與吸收劑發(fā)生化學反應(yīng)或物理反應(yīng)，使其轉(zhuǎn)化為無害物質(zhì)，從而凈化廢氣。

目前，半導體行業(yè)廢氣排放標準不同步，我國半導體行業(yè)廢氣排放標準主要以《半導體工業(yè)大氣污染物排放標準》為主，但是這個標準的主要適用對象是生產(chǎn)芯片的企業(yè)，而且許多地區(qū)都有自己的排放標準，所以最終需要參考當?shù)丨h(huán)保要求。

隨著半導體行業(yè)的不斷進步，半導體行業(yè)的廢氣處理技術(shù)也在不斷發(fā)展。根據(jù)不同的工藝流程，廢氣處理設(shè)備也會有所不同，不僅可以滿足環(huán)保排放標準，還能大大降低企業(yè)處理成本。